книги Наука, техника, медицина Техника Радиоэлектроника

Введение в технологию химического осаждения из газовой фазы тонких пленок для электроники: оборудование, методология, особенности роста. Учебное пособие для вузов

Код 5511458

  • ISBN: 978-5-507-48885-8
  • 344 страницы
  • май 2024
  • Лань

Наличие на складе

Склад в Москве

Ожидаемое поступление (если вы сделаете заказ прямо сейчас): 16.11.2025; планируемая отправка: 17.11.2025

Склад в С.-Петербурге

Ожидаемое поступление (если вы сделаете заказ прямо сейчас): 13.11.2025; планируемая отправка: 14.11.2025

Аннотация к книге "Введение в технологию химического осаждения из газовой фазы тонких пленок для электроники: оборудование, методология, особенности роста. Учебное пособие для вузов"

В книге представлена совокупность информации о процессах химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ) неорганических тонкопленочных покрытий (ТП), являющихся конструкционной основой современных электронных приборов. Рассмотрены эволюционные изменения задач и подходов к получению ТП методами ХОГФ: типы и выбор реагентов, многочисленные варианты конструкций оборудования, выбор условий получения ТП. Проанализирована методология исследований и разработки процессов осаждения. Приведены основные...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Издательство: Лань
Дата выхода: май 2024
ISBN: 978-5-507-48885-8
Объём: 344 страниц

Вместе с этой книгой покупают

Просмотренные товары

Просмотренные категории

Термодинамика Менеджмент (управление) Отечественные Ваша цена