книги Наука, техника, медицина Техника Транспорт Воздушный транспорт

Chemical Vapor Deposition. Simulation And Optimization

Код 912756

Нет в продаже

Аннотация к книге "Chemical Vapor Deposition. Simulation And Optimization"

The deposition of thin films on to a solid substrate has become an important materials processing technique and is of interest in many applications such as those involved with the fabrication of micro-electronic circuits, optical and magnetic devices, etc. Thin films are generally deposited by the process of Chemical Vapor Deposition (CVD).This work is directed at the simulation and optimization of the CVD process in a vertical impinging CVD reactor for material fabrication, focusing on the...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Издательство: Книга по требованию
Дата выхода: июль 2011
ISBN: 978-3-8364-9684-1
Объём: 112 страниц
Масса: 190 г
Размеры(высота, ширина, толщина), см: 23 x 16 x 1

Вместе с этой книгой покупают

Просмотренные товары