книги Наука, техника, медицина Техника Радиоэлектроника

Введение в технологию материалов микроэлектроники. В 3 частях. Часть 3. Эпитаксиальный рост. Учебник для вузов

Код 5418913

  • ISBN: 978-5-507-45481-5
  • 216 страниц
  • март 2023
  • Лань

Наличие на складе

Склад в Москве

Ожидаемое поступление (если вы сделаете заказ прямо сейчас): 16.11.2025; планируемая отправка: 17.11.2025

Склад в С.-Петербурге

Ожидаемое поступление (если вы сделаете заказ прямо сейчас): 13.11.2025; планируемая отправка: 14.11.2025

Аннотация к книге "Введение в технологию материалов микроэлектроники. В 3 частях. Часть 3. Эпитаксиальный рост. Учебник для вузов"

Представлены основные виды эпитаксиальных технологий. Рассмотрено конструктивное оформление и основные параметры наиболее распространенных видов эпитаксиального роста. Сформулированы требования к эпитаксиальным подложкам и описаны основные этапы их подготовки для эпитаксии. Рассмотрены особенности зародышеобразования в гетерогенных системах. Представлена классификация видов и механизмов эпитаксии. Структурные особенности эпитаксиальных систем классифицируются на основе бикристаллографического...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Издательство: Лань
Дата выхода: март 2023
ISBN: 978-5-507-45481-5
Объём: 216 страниц

Вместе с этой книгой покупают

Просмотренные товары

Просмотренные категории

Научные издания Общее языкознание Специальные издания От 3 до 7 лет