книги Наука, техника, медицина Медицина

Manufacturable Process/Tool for high-k/metal gate. Dielectric Stacks for Sub-45 nm CMOS

Код 911952

Нет в продаже

Аннотация к книге "Manufacturable Process/Tool for high-k/metal gate. Dielectric Stacks for Sub-45 nm CMOS"

Off state leakage current related power dominates the CMOS heat dissipation problem of state of the art silicon integrated circuits. In this study, this issue has been addressed in terms of a low-cost single wafer processing (SWP) technique using a single tool for the fabrication of high-? dielectric gate stacks for sub-45 nm CMOS. A system for monolayer photoassisted deposition was modified to deposit high-quality HfO2 films with in-situ clean, in-situ oxide film deposition, and in-situ anneal...

Оставить комментарий

Оцените книгу:

Издательство: Книга по требованию
Дата выхода: июль 2011
ISBN: 978-3-8364-8156-4
Объём: 204 страниц
Масса: 331 г
Размеры(высота, ширина, толщина), см: 23 x 16 x 2

Вместе с этой книгой покупают